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沉積爐升溫后何時開爐，就像烘焙蛋糕時決定何時打開烤箱門——太早會塌陷，太晚可能烤焦。對于多數(shù)沉積工藝，爐溫降至300-400℃時開爐較為合適。這個溫度區(qū)間既能保證沉積層穩(wěn)定，又避免高溫開爐導致的材料氧化或熱應力損傷。
材料特性：不同基材對溫度敏感度差異大，金屬件通常比陶瓷件能承受更高開爐溫度
沉積類型：化學氣相沉積（CVD）比物理氣相沉積（PVD）需要更嚴格控溫
工藝要求：精密器件往往需要更低開爐溫度來保證尺寸精度
實際操作時建議分步觀察：先讓爐體自然降溫至目標區(qū)間，打開觀察窗檢查沉積層狀態(tài)。若表面均勻無裂紋，可逐步開啟爐門。記住用紅外測溫儀實時監(jiān)控，避免溫度驟變。初始嘗試新工藝時，建議從較高溫度開始測試，逐步優(yōu)化至理想開爐點。
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